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艾曲迪微请求绝缘膜构成资料及半导体设备制作办法专利榜首成分固化线ppmK

时间: 2025-12-07 13:27:32 |   作者: 产品中心

  

艾曲迪微请求绝缘膜构成资料及半导体设备制作办法专利榜首成分固化线ppmK

  专利摘要显现,一种绝缘膜构成资料,其包括榜首成分和第二成分,所述榜首成分为聚酰亚胺前体和聚酰亚胺树脂中的至少一者,且固化后的线ppm/K,所述聚酰亚胺前体为选自在聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰胺酸盐和聚酰胺酸酰胺组成的组中的至少1种树脂;所述第二成分为聚酰亚胺前体和聚酰亚胺树脂中的至少一者,且固化后的线ppm/K,所述聚酰亚胺前体为选自在聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰胺酸盐和聚酰胺酸酰胺组成的组中的至少1种树脂。

  声明:商场有危险,出资需谨慎。本文为AI根据第三方数据生成,仅供参考,不构成个人出资主张。

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