上海新阳：光刻胶项目准备中试 中芯国际是公司重要客户
6月19日，上海新阳在投资者关系互动平台表示，受疫情影响，公司合肥第二基地建设与原计划相比略有延后，预计9月份开工建设。该项目主要是做用于芯片制程使用的关键工艺材料的研发、生产和销售，总投资金额约为6亿元。
今年年初，上海新阳被评审为“上海市重点实验室”，重点实验室研发主攻方向为集成电路制造用关键工艺材料，包括光刻胶、铜互连电镀工艺材料、蚀刻后清洗液和研磨后清洗液等。公司光刻胶项目已制定产品路线图。
据了解，上海新阳购买了三台光刻机，目前已有一台到厂运行。依据公司光刻胶项目进度的需要，今年会加大对光刻胶项目的投入。
目前，上海新阳光刻胶项目已完成实验室研发阶段，开始中试准备。上海新阳称，中芯国际是公司重要客户之一，公司多款晶圆制造用工艺材料已成为中芯国际的基准材料。
关于未来战略布局，上海新阳表示，公司将从始至终坚持以技术为主导，坚持瞄准国际前沿技术，面向全球产业需求，突破国际技术垄断，填补国内技术空白，持续进行技术创新与产品研制。专注于半导体关键工艺材料与技术的研发创新，致力于为用户更好的提供关键材料、配套设备、工艺技术和现场服务一体化的整体解决方案，使公司由材料产品提供商向工艺技术服务商转变发展方式与经济转型，提升公司行业知名度和品牌影响力，努力将公司建设成为中国半导体关键工艺材料与技术第一品牌。
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10 月 15 日消息，据武汉东湖新技术开发区管理委员会（中国光谷）今日消息，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破： 武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的 T150 A 光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。 中国光谷官方介绍称：“该产品对标国际头部企业主流 KrF 光刻胶系列。相较于被业内称之为‘妖胶’的国外同系列新产品 UV1610，T150 A 在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到 120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现 T150 A 中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表
4月28日，飞凯材料披露2021年第一季度报告，实现营业收入5.63亿元，同比增长52.89%，主要系下游客户的真实需求增加；归属于上市公司股东的净利润6821.12万元，同比增长30.22%；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润6173.66万元，同比增长21.70%；基本每股盈利0.13元。 飞凯材料表示，本期业务实现较大增长，重要的因素包括：屏幕显示材料主要受益于国产化率持续提升和国内面板产能持续增加，和公司新产品面板用光刻胶业务的大幅度的提高，本报告期实现营业收入28,824.11万元，同比增长63.90%。半导体材料受到下游需求增加的影响，本报告期实现营业收入12,126.40万元，同比增长57.29%。紫外固化
业务大幅度的提高，飞凯材料Q1营收同比增53% /
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